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1、连续磁控溅射镀膜生产线介绍 产品型号:CP-PVD系列 产品描述: CP-PVD系列磁控溅射镀膜设备采用先进的in-line产线结构,孪生阴极磁控溅射技术,并配以全自动控制系统、先进的真空系统,可在玻璃衬底上镀制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti以及薄膜及复合多膜层结构,各类金属或合金膜,可连续镀四种不同材质的薄膜,适合大规模光学、电学薄膜的生产,做到一机多用,了国内空白。 CP-PVD系列磁控溅射镀膜设备是由广东志成冠军集团与华中科技大学机械科学与工程学院根据在玻璃上溅镀薄膜功能材料的要求联合自主研发而成,具有高能效、高可靠性、低成本的优势。 技术特点: (一)产品结构特点 1)in-line多腔体模块化结构,镀膜室、进出片室缓冲隔离处理。 2)防颗粒立式腔体,双端进出,自动回架。 3)孪生平面靶结构、圆柱靶,可进行双面溅镀。 4)磁流体密封,动态真空稳定性。 5)磁导流、磁悬浮传动,运行过程平稳可靠。 6)SUS304不锈钢腔体材料,内壁抛光放气率低,外壁抛光喷珠美观耐用。 7)平移架气缸自动化平移,与自动平移实现同步连锁。 8)真空室之间采用门阀—插板阀隔开,高效隔断,工艺气体波动小化。(二)C-Mag技术 1)基于志成冠军“C-Mag”...[详细介绍]
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